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镀通孔PTH常见问题分析及解决方法

  镀通孔PTH常见问题分析及解决方法
  (A)孔清洁调整处理
  1.问题:基板进行孔清洁处理时带出的泡沫过多,导致下工序槽液被沾污。
  原因:
  (1)孔清洁调整液被基板带出过多
  (2)后续工序清洁不够
  (3)槽液配制出错
  解决方法:
  (1)保持基板在槽上方停留一定的时间,使槽液滴回槽中。
  (2)检查水量是否达到工艺要求。
  (3)严格按照工艺要求与操作细则规定进行配制。
  2.问题:槽液出现固体颗料
  原因:
  基板表面上的固体粒子无法溶于非整合性的槽液中
  解决方法:
  A.采用间歇过滤方法。
  B.去毛刺时首先进行清洗或蒸汽清洗。
  3.问题:指纹或尘埃未除尽
  原因:
  (1)配制溶液或添加药品有错
  (2)温度过低
  解决方法:
  (1)重配或添加时应严格按照工艺规定执行。
  (2)检测槽液温度应在工艺规定的范围内。
  (B)微蚀处理
  1.问题:蚀刻速率过慢或不起微蚀作用
  原因:
  (1)如采用过硫酸铵微蚀液,则溶铜量超标
  (2)如采用硫酸/双氧水,可能两成份中其中一个含量不足或溶铜量超标
  (3)槽液温度过低
  (4)槽液受孔清洁调整液的污染
  解决方法:
  (1)应按照工艺规定,换新溶液。
  (2)进行分析或调整。
  (3)检测并检查加热装置是否失效。
  (4)应按照工艺规定进行重新配制。
  2.问题:硫酸/双氧水微蚀刻液蚀刻速率太快及溶液温度升高
  原因:
  (1)溶液中双氧水含量过多
  (2)处理的板量过多
  (3)特别重新返工的PTH的板有时带入钯成份而加快双氧水的分解
  解决方法:
  (1)分析和调整(按工艺规定执行)。
  (2)应按槽液量,测算出最佳的处理多少面积板。
  (3)重做的PTH板要采用另外槽液去剥离化学镀铜层,彻底清洗后再进入微蚀槽进行微蚀处理。
  3.问题:微蚀后的板表面产生条纹或微蚀不足
  原因:
  (1)经孔清洁调整液处理后清洗不干净
  (2)孔清洁调整溶液的润湿剂与微蚀液不妆容
  (3)清洁剂除污效果差
  (4)微蚀处理不够,基板表面仍呈现光亮
  (5)基体铜与化学铜层附着力差,说明微蚀不够或后清洗不足所至
  解决方法:
  (1)加强清洗,减少带出清洁调整液机会。
  (2)采用互相兼容的处理液或采用同一厂商生产的药品品牌。
  (3)按工艺要求调整溶液的温度、浓度及处理时间。
  (4)检测蚀刻速率并按工艺规定进行更换或调整。
  (5)检查及改善微蚀效果并加强后清洗。
  (C)活化和及加速处理
  1.问题:槽液表面有银色的亮膜
  原因:
  活化液中部分钯被氧化
  解决方法:
  当槽液不使用时,应加覆盖膜予以遮盖。
  2.问题:活化液变成透明澄清,而在槽底形成黑色沉淀
  原因:
  由于活化液中钯浓度太低、二价锡过低,或氯离子太低,或吹入的空气中氧使钯胶体聚成一团而沉淀。
  解决方法:
  A.采用覆盖膜加盖在槽液表面上。
  B.应尽量避免吹入空气。
  C.分析活化液中的二价锡离子、二价钯离子及氯离子,然后根椐分板进行调整。
  D.严重时应按照工艺规定重新更换槽液。
  3.问题:加速处理液中出现固体粒子
  原因:
  由于活化液带入过多而形成凝团
  解决方法:
  A.加强活化后的清洗。
  B.应按照工艺规定期进行过滤。
  4.问题:由于活化不良而造成沉铜后铜孔壁内有破洞
  原因:
  (1)活化液中浓度太低
  (2)活化液温度过低
  (3)活化液中酸的浓度太低
  解决方法:
  (1)分析与调整达到工艺要求的范围。
  (2)严格按照工艺参数控制槽液温度。
  (3)按照工艺规定调整到最佳的酸浓度范围。
  5.问题:加速处理不良造成铜层与孔壁结合力差
  原因:
  (1)活化液浓度太高使附着上的钯膜不易被加速处理
  (2)活化处理时间过长
  (3)加速液浓度或温度过低
  (4)加速液温度太高或时间太长造成过度加速处理,导致局部钯层被剥掉
  (5)加速处理不足,在铜表面残留有Sn的化合物
  (6)加速处理液中,Sn含量增加
  解决方法:
  (1)应按照工艺规定周期性分析和调整。
  (2)应按照工艺规定的工艺参数进行控制。
  (3)应根据工艺规定定期分析与添加及严格控制活化液的温度。
  (4)严格按照工艺规定的工艺参数进行操作及定期进行分析和调整。
  (5)检查加速处理工艺,亚格按工艺规定执行。
  (6)更换加速处理液。
  6.问题:加速处理溶液浓度过高,处理时间过长易使沉铜出现空洞
  原因:
  由于加速液浓度过高或处理时间过长,会导致只吸附的钯脱落所至
  解决方法:
  应按照工艺规定进行分板与调整及严格控制处理时间(通常1-2分钟)。

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